水处理光刻胶价格规格尺寸

光刻胶的分类

以下是赛米莱德为您一起分享的内容，赛米莱德生产光刻胶，欢迎新老客户莅临。

硅片制造中，光刻胶的目的主要有两个：1将掩模版图形转移到硅片表面顶层的光刻胶中；2在后续工艺中，保护下面的材料例如刻蚀或离子注入阻挡层。

分类

光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。图1是正性胶的显影工艺与负性胶显影工艺对比结果示意图 [2]  。

光刻胶的应用

以下内容由赛米莱德为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。

模拟半导体-og semiconductors发光二极管light-emitting diodes leds微机电系统microelectromechanical systems mems太阳能光伏solar photovoltaics pv微流道和生物芯片microfluidics & biochips光电子器件/光子器件optoelectronics/photonics封装packaging

光刻胶的未来市场

光刻胶市场需求逐年增加，2018年全球半导体光刻胶销售额12.97亿美元，而国内光刻胶需求量方面，2011年光刻胶需求量为3.51万吨，到2017年需求量为7.99万吨，年复合增长率达14.69%。

国内光刻胶需求量远大于本土产量，且差额逐年扩大。由于中国-光刻胶市场起步晚，目前技术水平相对落后，生产产能主要集中在pcb光刻胶、tn/stn-lcd光刻胶等中低端产品，tft-lcd、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能很少。

想了解更多关于光刻胶的相关，请持续关注本公司。