光刻胶,正性光刻胶,光刻胶公司
北京赛米莱德贸易有限公司
联系人：况经理
电话：010-63332310
手机：15201255285
主营：光刻胶,正性光刻胶,光刻胶公司
地址：北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208
光刻胶
nr77-15000p
nr77-25000p,rd8
品牌
产地
型号
厚度
-
应用
加工
特性
futurrex
美国
nr71-1000py
0.7μm~2.1μm
高温耐受
用于i线-的负胶
ledoled、
显示器、
mems、
封装、
生物芯片等
金属和介电
质上图案化，
不必使用rie
加工器件的永
组成
oled显示
器上的间隔
区凸点、
互连、空中
连接微通道
显影时形成光刻胶倒
梯形结构
厚度范围：
0.5～20.0 μm
i、g和h线-波长
对生产效率的影响：
金属和介电质图案化
时省去干法刻蚀加工
不需要双层胶技术
nr71-1500py
1.3μm~3.1μm
nr71-3000py
2.8μm～6.3μm
nr71-6000py
5.7μm~12.2μm
nr9-100py
粘度增强
nr9-1500py
nr9-3000py
2.8μm~6.3μm
nr9-6000py
nr71g-1000py
负胶对 g、h线波长的灵敏度
nr71g-1500py
nr71g-3000py
nr71g-6000py
nr9g-100py
0.7μm～2.1μm
nr9g-1500py
1.3μm～3.1μm
nr9g-3000py
nr9g-6000py
耐热温度
pr1-500a
0.4μm～0.9μm
11．请教~有没有同时可以满足rie
process 和lift-off
process的光阻，谢谢！
a 我们使用futurrex
nr1-300py来满-上工艺的需求。
12．futurre光刻胶里，有比较容易去除的负光阻吗？
a nr9-系列很容易去除，可以满足去胶需要。
13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，希望找到好的替代光阻？
a nr9-8000因为有-的ar比例，适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。
14．传统的color
filter 制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有更快的方法制作coior
filter?
a 用于silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，同时光阻不需要reflow, 颜色也不会老化改变，只需要在filter上面加热溶解pr1-2000s光阻，microlenses就能形成！
15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？
a 美国futurrex公司，专门生产应用化学品的，可以为平坦化的材料提供pc3-6000和pc4-1000都是为平坦化用途设计，台湾企业用的比较多。
16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布protective
coating，那种适合？？
a 美国futurrex，pc4-10000。
17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，谢谢？
a 我们公司是使用futurrex
pc3-6000,可以替代的，而且去除比较容易，你可以-下。
18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与mems应用的光刻胶吗？
a nr4-8000p可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底nr9-8000p是适合的选择。
19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？
a 你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，nr4-8000p是专门为光波导图案应用进行设计的产品。
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