NR7 6000P光刻胶报价-「多图」

光刻胶分类介绍

以下内容由赛米莱德为您提供，今天我们来分享光刻胶的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！

根据化学反应机理和显影原理的不同，光刻胶可以分为负性胶和正性胶。对某些溶剂可溶，但经-后形成不可溶物质的是负性胶;反之，对某些溶剂不可溶，经-后变成可溶的为正性胶。  从需求端来看，光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和pcb光刻胶。其中，半导体光刻胶的技术壁垒较高。

光刻胶产品种类多、-性强，是典型的技术密集型行业。不同用途的光刻胶-光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能要求不同，导致对于材料的溶解性、耐蚀刻性、耐热性等要求不同。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊，要求使用不同品质等级的光刻胶-化学品。

   光刻胶的主要技术参数

1．灵敏度sensitivity

灵敏度是衡量光刻胶-速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的-剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mj/cm2。

2．分辨率resolution

区别硅片表-邻图形特征的能力。一般用关键尺寸cd，critical dimension来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。

光刻胶的分辨率是一个综合指标，影响该指标的因素通常有如下3个方面：

(1) -系统的分辨率。

(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。

(3) 前烘、-、显影、后烘等工艺都会影响光刻胶的分辨率。  

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光刻胶

在-过程中，正性胶通过感光化学反应，切断树脂聚合体主链和从链之间的联系，达到削弱聚合体的目的，所以-后的光刻胶在随后显影处理中溶解度升高。-后的光刻胶溶解速度几乎是未-的光刻胶溶解速度的10倍。而负性胶，在感光反应过程中主链的随机十字链接更为紧密，并且从链下坠物增长，所以聚合体的溶解度降低。见正性胶在-区间显影，负性胶则相反。负性胶由于-区间得到保留，漫射形成的轮廓使显-的图像为上宽下窄的图像，而正性胶相反，为下宽上窄的图像。

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